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药液供给/回收系统为各研究所、高等院校等提供灵活的客户化定制机台，满足客户需求。

超净工作台是种通用型局部净化设备，可提供局部百级洁净工作环境

氮气存储柜是将高纯氮气充入柜内形成微正压，提供干燥无氧的洁净存储空间

通过集中存储各工艺气体钢瓶，来控制管理各工艺气体气路系统,为工艺设备提供配套

通过四探针测试硅单晶的体电阻率，渗杂半导体以及金属薄层电阻

用于对硅片或其他工件表面进行刻蚀或清洗工艺的需求

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通过集中存储各工艺气体钢瓶，来控制管理各工艺气体气路系统,为工艺设备提供配套

通过四探针测试硅单晶的体电阻率，渗杂半导体以及金属薄层电阻

用于对硅片或其他工件表面进行刻蚀或清洗工艺的需求

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超净工作台是种通用型局部净化设备，可提供局部百级洁净工作环境

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通过集中存储各工艺气体钢瓶，来控制管理各工艺气体气路系统,为工艺设备提供配套

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通过四探针测试硅单晶的体电阻率，渗杂半导体以及金属薄层电阻

用于对硅片或其他工件表面进行刻蚀或清洗工艺的需求

药液供给/回收系统为各研究所、高等院校等提供灵活的客户化定制机台，满足客户需求。

氮气存储柜是将高纯氮气充入柜内形成微正压，提供干燥无氧的洁净存储空间

通过集中存储各工艺气体钢瓶，来控制管理各工艺气体气路系统,为工艺设备提供配套

用于对硅片或其他工件表面进行刻蚀或清洗工艺的需求

超净工作台是种通用型局部净化设备，可提供局部百级洁净工作环境

氮气存储柜是将高纯氮气充入柜内形成微正压，提供干燥无氧的洁净存储空间

通过集中存储各工艺气体钢瓶，来控制管理各工艺气体气路系统,为工艺设备提供配套

通过四探针测试硅单晶的体电阻率，渗杂半导体以及金属薄层电阻

用于对硅片或其他工件表面进行刻蚀或清洗工艺的需求

SRU有机溶剂回收系统应用于回收涂布工艺中有机溶剂挥发产生的废气并再利用，以达到环保的效果。

GTC精密恒温恒湿机用于平板显示、半导体制造等领域的精确温湿度控制，保证曝光机、显影/涂布设备等制程的优良率。

主要用于面板厂、晶圆厂、封装测试厂的曝光机镜面防雾化, 去除吸入曝光机中的AMC污染物。

NAURA研发的空气冷却单元，可冷却工艺设备排放的有机废气，并对低温热空气进行余热回收，实现节能环保功效。

SRU有机溶剂回收系统应用于回收涂布工艺中有机溶剂挥发产生的废气并再利用，以达到环保的效果。

可应用于平板显示行业的热能回收系统TRU，针对设备生产过程中产生的热废气进行回收后再利用，用来加热冷空气，减小用电量，实现节能减排。

GTC精密恒温恒湿机用于平板显示、半导体制造等领域的精确温湿度控制，保证曝光机、显影/涂布设备等制程的优良率。

主要用于面板厂、晶圆厂、封装测试厂的曝光机镜面防雾化, 去除吸入曝光机中的AMC污染物。